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半導體--廠務系統過濾
圖片說明：一、半導體廠務超純氣體過濾
電子氣體廣泛運用于半導體制程的各種工藝中，隨著半導體晶圓尺寸的微小化，若電子氣體的純度或凈度不達標，就會影響半導體的良品率。
一座半導體廠在生產中可能使用的電子氣體約50種，可分為大宗氣體（Bulk Gas）和特殊氣體（Special Gas）。大宗氣體包含N?、O?、Ar等，特殊氣體可分為惰性氣體、燃燒氣體和腐蝕氣體。
目前半導體廠對大宗氣體的純度要求達到3N，對特種氣體的純度要求則達到了5N-6N（N 指純度百分比中9的個數），廠務系統需要配套的氣體過濾設備阻隔污染物。
二、半導體廠務超純化學品過濾
在半導體制造過程中，高達20%工藝步驟是清洗和晶圓表面的處理，涉及到多種濕電子化學品。
在濕電子化學品SEMI標準等級表格中，可以看到高等級濕電子化學品對純度的要求已達到ppt級別，在這些超純化學品正式進入制程前，半導體廠務系統要對其進行必要的過濾處理。
三、半導體廠務超純水過濾
廠務系統還需要對生產中使用的超純水進行質量把關。半導體生產過程需要用到的水分為冷卻循環水與工藝點位用水兩大類。
冷卻循環水在半導體廠務系統中需要大批量，不間斷的長期供應，對過濾的穩定性提出了很高的要求。
而用于點位的超純水被稱作 “行業血脈”，指標要求高之又高，除對溫度、電阻率、顆粒物、溶解氧等指標有規定外，水中的二氧化硅、硼等元素的含量也要進行嚴格的控制，因為這些元素與半導體晶圓的組成元素相同或相近，很容易參與生產線上的反應而造成產品良率下降。
四、半導體廠務空氣過濾
在半導體生產車間，粉塵、顆粒等污染物除直接影響成品合格率外，這些污染物粘在集成電路上還有可能造成斷路、短路，甚至有火災的安全隱患，所以半導體生產制程要在嚴格控制的環境條件的潔凈室中進行，廠務系統則負責保障潔凈室的潔凈等級。
芯片廠傳統的通風形式是在車間整個天花板上布滿高效空氣過濾器，整個地面作為回風柵板，如今，芯片廠中有些車間會使用自帶風機的過濾裝置，即FFU。
FFU循環系統不僅潔凈度安全性高，而且可以節省運行空間，操作靈活性高，可以在不影響生產的情況下隨時進行系統升級和調整，在擁有以上優點的同時，它還有較低的運行成本，因此在半導體制造中，FFU循環系統逐漸成為主要的無塵車間工程設計方案，在使用FFU時多采用雙面密封條無隔板過濾器與之配套。
電子氣體廣泛運用于半導體制程的各種工藝中，隨著半導體晶圓尺寸的微小化，若電子氣體的純度或凈度不達標，就會影響半導體的良品率。
一座半導體廠在生產中可能使用的電子氣體約50種，可分為大宗氣體（Bulk Gas）和特殊氣體（Special Gas）。大宗氣體包含N?、O?、Ar等，特殊氣體可分為惰性氣體、燃燒氣體和腐蝕氣體。
目前半導體廠對大宗氣體的純度要求達到3N，對特種氣體的純度要求則達到了5N-6N（N 指純度百分比中9的個數），廠務系統需要配套的氣體過濾設備阻隔污染物。
二、半導體廠務超純化學品過濾
在半導體制造過程中，高達20%工藝步驟是清洗和晶圓表面的處理，涉及到多種濕電子化學品。
在濕電子化學品SEMI標準等級表格中，可以看到高等級濕電子化學品對純度的要求已達到ppt級別，在這些超純化學品正式進入制程前，半導體廠務系統要對其進行必要的過濾處理。
三、半導體廠務超純水過濾
廠務系統還需要對生產中使用的超純水進行質量把關。半導體生產過程需要用到的水分為冷卻循環水與工藝點位用水兩大類。
冷卻循環水在半導體廠務系統中需要大批量，不間斷的長期供應，對過濾的穩定性提出了很高的要求。
而用于點位的超純水被稱作 “行業血脈”，指標要求高之又高，除對溫度、電阻率、顆粒物、溶解氧等指標有規定外，水中的二氧化硅、硼等元素的含量也要進行嚴格的控制，因為這些元素與半導體晶圓的組成元素相同或相近，很容易參與生產線上的反應而造成產品良率下降。
四、半導體廠務空氣過濾
在半導體生產車間，粉塵、顆粒等污染物除直接影響成品合格率外，這些污染物粘在集成電路上還有可能造成斷路、短路，甚至有火災的安全隱患，所以半導體生產制程要在嚴格控制的環境條件的潔凈室中進行，廠務系統則負責保障潔凈室的潔凈等級。
芯片廠傳統的通風形式是在車間整個天花板上布滿高效空氣過濾器，整個地面作為回風柵板，如今，芯片廠中有些車間會使用自帶風機的過濾裝置，即FFU。
FFU循環系統不僅潔凈度安全性高，而且可以節省運行空間，操作靈活性高，可以在不影響生產的情況下隨時進行系統升級和調整，在擁有以上優點的同時，它還有較低的運行成本，因此在半導體制造中，FFU循環系統逐漸成為主要的無塵車間工程設計方案，在使用FFU時多采用雙面密封條無隔板過濾器與之配套。
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